- 1
- 2
新闻资讯/NEWS
MORE +工程展示/PRODUCT
MORE +
联系我们/CONTACT
MORE +
座机：0531-55535589
手机：13864120112 郭经理
13225310152 韩经理
传真：0531-88611996
邮箱:ql-led@163.com
地址：济南市北园大街398号欧亚电子大厦三楼F332
手机：13864120112 郭经理
13225310152 韩经理
传真：0531-88611996
邮箱:ql-led@163.com
地址：济南市北园大街398号欧亚电子大厦三楼F332
光电技术
发布时间:2017-08-01 18:45:59 来源:tag机场下载 点击：
近日，由中科院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功波长254nm的实用深紫外光刻机（Mask aligner）,光刻分辨力达到500nm。Mask aligner因使用方便、效率高、成本低，一直是使用面最广、使用数量最多的一种光刻设备。在现有的微纳加工工艺中，光刻所采用的波段是决定光刻分辨力的重要因素之一。长期以来，国产Mask aligner均采用紫外波段（350nm至450nm）,分辨力只能做到1μm以上。而对于200nm至1μm的微纳器件复制，只能采用进口紫外投影光刻机，200nm以下分辨力则只能采用进口深紫外投影光刻机。该型设备的成功研制填补了国内商用化深紫外光刻机的空白，可低成本解决500nm以上器件的高效复制，具有很好的社会、经济效益。
友情链接:
济南tag机场下载技术|